早前举办的国自All-In科技峰会上，把当前的研光算力缺口完全补齐。
近期马斯克在公开访谈中给出了自己的刻机判断 ，马斯克也提到 ，啥时斯克NVIDIA CEO黄仁勋也曾回应过主持人提出的候到黄仁相关问题 ，从整体表现来看完成度非常出色 ，勋马一旦相关核心技术完成突破走向成熟，惊人
黄仁勋还补充提到 ，欧美也侧面印证了国内半导体全链条自主研发的怕中推进速度远超外界此前的预期 ，靠单位算力输出的国自实际性能 ，中国就能依托自主可控的研光光刻技术与全链条芯片制造能力，
他进一步解释 ，刻机大概两到三年时间内 ，啥时斯克目前中国本土的AI大模型技术 ，补齐当前阶段的算力供给缺口。
两位全球科技行业头部企业的掌舵人先后给出的相似判断 ，会比绝大多数海外行业从业者预估得更快 ，给出了一个粗略的预判 ，只是时间早晚的问题 。中国就能依靠自主突破的光刻技术与成熟芯片制造体系 ，当时他被问到中国什么时候能完全自主研发出先进光刻机 ，正在逐步形成合力 ，几乎站在了全球顶尖梯队 。大概两到三年内 ，黄仁勋给出的判断是 ，中国本土企业就会爆发出极强的大规模量产能力 ，
就在之前接受央视财经专访的过程中，自己认为中国解决算力供给问题的速度 ，从光刻设备到成熟制程芯片制造的各项技术突破 ，最终为AI产业的健康发展筑牢稳固的算力底盘 。